單層MoS2電晶體提升效能為後矽晶片技術鋪路 8 月 9 即時新聞, 晶片技術, 科技新知 單層MoS2電晶體提升效能為後矽晶片技術鋪路 摘要國科會說明,二維半導體若要在晶片中控制電流,必須在材料上方鋪設超薄閘極介電層。 在國科會計畫支持下,台灣研 […] by [email protected] 更多